Rasterelektronenmikroskop
Typ
SUPRA 40 VP
Geräteklasse
Elektronenmikroskop
Hersteller
ZEISS
Anwendung
- Hochauflösende Mikroskopie
- Struktur- und Elementanalysen an präparierten Oberflächen und Schnittflächen
- Charakterisierung der Kristallstruktur
Eigenschaften
- Gemini®-Säule mit Shottky-Emitter
- Variable-Pressure-Option zur Untersuchung nichtleitender Proben ohne vorherige Metallisierung
- maximale Auflösung:
- 1,3 nm bei 15 kV Beschleunigungsspannung
- 2,1 nm bei 1 kV
- 5,0 nm bei 0,2 kV
- Vergrößerung 12…900.000fach
- Beschleunigungsspannung 0,1…30 kV
- Messstrom 4 pA…20 nA
- Detektoren:
- In-Lens-Detektor
- Everhart-Thornley-SE-Detektor
- VPSE-Detektor
- Zusatzoptionen
- EDX-System
- EBSD-System

Beispiele
Zerstörte Klebeverbindung nach Abscherung

NiAu-Finish auf Leiterplatte

Gerichtete Carbon Nano Tubes (CNT) auf Silizium

Lötstelle eines Zweipolers mit Phasenbildung an den Grenzflächen

Gesägte PZT-Keramik, Säulen 55 x 55 x 525 µm³

EDX an einem Goldbronddraht
