Rasterelektronenmikroskop

Typ
SUPRA 40 VP
Geräteklasse
Elektronenmikroskop
Hersteller
ZEISS
Anwendung
  • Hochauflösende Mikroskopie
  • Struktur- und Elementanalysen an präparierten Oberflächen und Schnittflächen
  • Charakterisierung der Kristallstruktur
Eigenschaften
  • Gemini®-Säule mit Shottky-Emitter
  • Variable-Pressure-Option zur Untersuchung nichtleitender Proben ohne vorherige Metallisierung
  • maximale Auflösung:
    • 1,3 nm bei 15 kV Beschleunigungsspannung
    • 2,1 nm bei 1 kV
    • 5,0 nm bei 0,2 kV
  • Vergrößerung 12…900.000fach
  • Beschleunigungsspannung 0,1…30 kV
  • Messstrom 4 pA…20 nA
  • Detektoren:
    • In-Lens-Detektor
    • Everhart-Thornley-SE-Detektor
    • VPSE-Detektor
  • Zusatzoptionen
    • EDX-System
    • EBSD-System
Beispiele
Zerstörte Klebeverbindung nach Abscherung
NiAu-Finish auf Leiterplatte
Gerichtete Carbon Nano Tubes (CNT) auf Silizium
Lötstelle eines Zweipolers mit Phasenbildung an den Grenzflächen
Gesägte PZT-Keramik, Säulen 55 x 55 x 525 µm³
EDX an einem Goldbronddraht